SHIK purifying bubble mask маска пузырьковая очищающая №1

Нет отзывов

199

Бренд: Shik

Страна:Корея

Описание

Состав

Описание товара

Способ применения

Состав

Состав: Water, Hydrogenated Polydecene, Methyl Perfluoroisobutyl Ether, Methyl Perfluorobutyl Ether, Caprylic/Capric Triglyceride, Potassium Cocoyl Glycinate, Cyclopentasiloxane, Dipropylene Glycol, Cetyl Alcohol, Glycerin, Decyl Glucoside, Glyceryl Stearate, Acrylates Copolymer, Carbomer, Arginine, Allantoin, Betaine, Fragrance, Sodium Hyaluronate, Niacinamide, Panthenol, Camellia Sinensis Leaf Extract, Hamamelis Virginiana (Witch Hazel) Extract, Punica Granatum Fruit Extract, Disodium EDTA.

Описание товара

Тканевая маска деликатно очищает кожу лица, удаляет ороговевшие клетки, сужает поры, выравнивает тон и освежает цвет лица. Обладает успокаивающим и заживляющим действием. При взаимодействии с воздухом маска активируется и образует насыщенные кислородные пузырьки.
Очищающая маска не стягивает кожу, успокаивает ее и мгновенно улучшает цвет лица.
Идеально подготавливает кожу к последующему ритуалу ухода.
Эксклюзивно разработанное лекало очищающей тканевой маски идеально подойдет для любой формы лица.
Подходит для чувствительной кожи

Способ применения

Извлеките маску из саше, равномерно распределите ее по лицу, выдержите 15-20 минут до образования пузырьков. Смойте состав маски водой

О бренде

SHIK — популярный косметический бренд, созданный топ-визажистом и бьюти-экспертом Натальей Шик. SHIK — это философия красоты и вдохновения. Миссия SHIK — создавать лучшие косметические продукты с любовью и заботой о женщине.

Отзывы о товаре

Отзывов на товар нет. Ваш может быть первым

SHIK purifying bubble mask маска пузырьковая очищающая №1

Состав

Описание товара

Способ применения

Наличие товара в пунктах выдачи